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表面鍍貴金屬用于薄膜研究（<2”）

3靶等離子濺射鍍膜儀VTC-16-3HD

同一腔室中3靶頭用于貴金屬的濺射鍍膜

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表面鍍各種金屬用于薄膜研究（<2”）

小型等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-16-SM

?磁控濺射鍍膜

?最大濺射電流可達(dá)150mA，?可用于濺射各種輕金屬如Al,  Sn, Zn 等

3

表面鍍絕大多數(shù)的金屬或無(wú)機(jī)非金屬材料薄膜（<2”）

精密溫控高真空蒸發(fā)鍍膜儀GSL-1700X-SPC-2

?高真空蒸發(fā)鍍膜儀

?蒸鍍溫度從200-1500℃（或選配B型熱電偶，蒸鍍溫度可從1200-1700℃）

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表面鍍氧化物薄膜（<2”）

1英寸或2英寸300W射頻等離子磁控濺射儀VTC-2RF

?低成本

?射頻電源

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各種材料表面進(jìn)行光學(xué)涂層（多晶）（<4”）

超高真空4蒸發(fā)舟蒸發(fā)鍍膜儀GSL-1800-ZF4

?分子泵高真空

?4個(gè)蒸鍍加熱舟

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金屬及無(wú)機(jī)非金屬氧化物薄膜的外延生長(zhǎng)（<4”）

DC/RF雙靶頭高真空等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-600-2HD

?配備有直流以及射頻電源，分子泵

?可用于各種材料薄膜的外延生長(zhǎng)

?同時(shí)配備測(cè)厚儀實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜厚度