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結(jié)果分析：從XRD圖中可以看到，退火后Mo薄膜在40.6°、73.5°、87.3°分別出現(xiàn)了體心立方金屬M(fèi)o(110)、(211)、(220)晶面衍射峰，說明鉬呈現(xiàn)多晶相結(jié)構(gòu)，且（110）衍射峰強(qiáng)度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于其他方向，說明Mo薄膜純度較高，且出現(xiàn)明顯的擇優(yōu)取生長(zhǎng)。

第二組

實(shí)驗(yàn)思路：已成功在硅基底濺射鉬薄膜，將基底更換為304電池殼（打磨拋光除去電池殼鍍層，并依次使用酒精，去離子水超聲清洗，70攝氏度真空烘干24h）

結(jié)果分析：從XRD圖中可以看到，不銹鋼表面出現(xiàn)Mo薄膜，且在40.5°、73.5°分別出現(xiàn)了體心立方金屬M(fèi)o(110)、(211)晶面衍射峰，說明鉬呈現(xiàn)多晶相結(jié)構(gòu)。

第三組：

實(shí)驗(yàn)思路：已成功在電池殼鍍膜并檢測(cè)到有鉬薄膜形成，同樣條件在二級(jí)內(nèi)部鍍膜（鍍膜前已使用酒精清洗，并使用無塵布擦拭干凈后用熱風(fēng)槍風(fēng)干）

  鍍膜前                       鍍膜后（10min）                   鍍膜后（20min）

結(jié)果分析：鍍膜時(shí)間增加，鉬薄膜顏色略微加深，使用萬用表檢測(cè)，導(dǎo)通性良好。

第四組：膜性能測(cè)試

結(jié)果分析：使用3M膠帶粘黏劃破后的薄膜，發(fā)現(xiàn)破口附近無薄膜脫落，說明膜結(jié)合力良好。無水乙醇擦拭前后，鉬薄膜無變化，說明膜表面致密性優(yōu)良，附著力較強(qiáng)。

2、導(dǎo)電性測(cè)試：

實(shí)驗(yàn)思路：使用萬用表對(duì)鉬薄膜電阻值進(jìn)行測(cè)試

結(jié)果分析：使用萬用表檢測(cè)兩個(gè)元件內(nèi)部鍍鉬部分電阻均為0。

結(jié)果分析2：打開二極測(cè)量裝置，發(fā)現(xiàn)內(nèi)部鍍膜部分顏色加深，使用抹布擦拭，薄膜無明顯脫落痕跡，說明鍍膜在電解液作用下防腐效果優(yōu)良。

參考文獻(xiàn)：

[1] https://www.doc88.com/p-7843590246566.html《磁控濺射法制備鉬薄膜的研究現(xiàn)狀》

[2] https://pdf.hanspub.org/MS20180600000_37174912.pdf《兩種鉬靶材濺射鉬薄膜的組織性能研究》

[3] http://www.xjishu.com/zhuanli/24/201910724611_3.html《鉬圓PVD磁控濺射鍍膜方法與流程》

特別聲明：

1. 以上所有實(shí)驗(yàn)僅為初步探究，僅供參考。由于我們水平有限，錯(cuò)誤疏漏之處歡迎指出，我們非常期待您的建議。

2. 歡迎您提出其他實(shí)驗(yàn)思路，我們來驗(yàn)證。

3. 以上實(shí)驗(yàn)案例及數(shù)據(jù)只針對(duì)科晶設(shè)備，不具有普遍性。

4. 因?yàn)樯婕氨Ｃ軉栴}，以上數(shù)據(jù)僅為部分?jǐn)?shù)據(jù)，歡迎老師與我們聯(lián)系，我們非常期待和您共同探討設(shè)備的應(yīng)用技術(shù)。