- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
1200℃雙坩堝移動型管式爐
- 關(guān)鍵字：
- 雙溫區(qū)、開啟式、同時移動
- 型號：
- OTF-1200X-Ⅱ-S2
- 產(chǎn)品概述：
- OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進料系統(tǒng)的共蒸發(fā)多層沉積管式爐，通過升降雙通道進料系統(tǒng)可裝載4個不同材料的蒸發(fā)坩堝舟，并且可一次同時送入兩個蒸發(fā)坩堝源進入管式爐中進行共蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實現(xiàn)快速加熱，并且通過對各個溫區(qū)設(shè)置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進料系統(tǒng)可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發(fā)料的坩堝一同推進拉出，實現(xiàn)共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā)，適用于多層二維晶體材料的制備。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
| 管式爐
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雙溫區(qū)管式爐：兩個獨立的溫控系統(tǒng)對每個溫區(qū)進行獨立控溫 電壓：220V AC 50/60Hz 功率：3KW 加熱區(qū)長度：440mm 恒溫區(qū)長度：300mm 溫度曲線圖(兩個溫區(qū)設(shè)置在800℃時所測，僅供參考）（可點擊圖片查看詳細資料）
爐管材料：高純石英管 標配爐管尺寸：Φ100（外）×Φ94（內(nèi)）×640（長） 最高工作溫度：1200℃（＜1h） 連續(xù)工作溫度：1100℃ 控溫精度：±1℃ 推薦升溫速率：10℃/min
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| 坩堝推送機構(gòu)（升降雙通道進料系統(tǒng)）
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一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入爐管內(nèi)部，并與坩堝相連接，實現(xiàn)溫度的實時監(jiān)測（如圖1） 升降雙通道進料系統(tǒng)放置在一中空的真空腔體中，上方采用不銹鋼真空法蘭進行密封，兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進裝置及管式爐進行連接，保證進料在真空狀態(tài)或者氣氛保護狀態(tài)下進行運作（圖2） 進料系統(tǒng)真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個獨立小石英管（圖3） 在升降雙通道進料系統(tǒng)中最多可放入4個坩堝（圖4），利用推送系統(tǒng)可交替將4個不同蒸發(fā)源單個依次送入石英管中，也可將放入不同材料的2個坩堝蒸發(fā)源一同送入，分別精確的推入兩個獨立的小石英管中（圖5），找到所需的蒸發(fā)溫度處進行共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā)，保證實驗的重復(fù)性以及穩(wěn)定性（圖6）
   
圖1 圖2 圖3 圖4
 
圖5 圖6
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| 坩堝推送控制系統(tǒng)
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| 真空表
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機械壓力表+數(shù)顯壓力表 |
| 真空泵
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| 混氣系統(tǒng)
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此套設(shè)備中配有一2路混氣系統(tǒng) 最大輸出功率：18W 工作溫度：5-45℃ 精度：±1%FS 質(zhì)量流量計量程：1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根據(jù)客戶要求選購1-5路供氣系統(tǒng)
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| 水冷系統(tǒng)
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標配一16L循環(huán)水冷系統(tǒng)
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| 尺寸
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| 國家專利
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| 質(zhì)保期
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一年質(zhì)保期，終生維護 |
| 質(zhì)量認證
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| 使用注意事項
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爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài) 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 石英管的長時間使用溫度＜1100℃ 對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）
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| 應(yīng)用舉例
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此款管式爐具有多種用途： 熱蒸發(fā)：將蒸發(fā)料放入坩堝中，通過移動坩堝來精確找到所需蒸發(fā)溫度 HPCVD：通入反應(yīng)氣體實現(xiàn)反應(yīng)蒸發(fā)沉積 共蒸發(fā)沉積或反應(yīng)蒸發(fā)沉積：利用獨特的雙通道進料裝置可以實現(xiàn)兩蒸發(fā)源的同時送入，實現(xiàn)共蒸發(fā)沉積或反應(yīng)蒸發(fā)沉積 多層二維晶體：此套設(shè)備可以實現(xiàn)多層二維晶體的制備（硒化物硫化物等），操作方便簡單，實驗更具精確性、重復(fù)性。
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| 國家專利
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專利名稱：多樣品通道自動切換進樣系統(tǒng)
專利號：ZL 2016 1 0396131.5
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