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三靶磁控濺射儀
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三個直流、射頻通用靶頭
型號:
VTC-600-3HD
產(chǎn)品概述:
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是最新研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
主要特點

可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛

 

體積小,操作簡便

 

真空腔室、真空泵組整機模塊化設(shè)計 ,控制電源為分體式設(shè)計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整購買需求。

 

可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍,購買前請聯(lián)系我公司銷售。


磁控濺射頭

儀器中安裝有3個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層(圖一)

 

其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材(圖二)

 

另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材

 

靶材尺寸要求:直徑為50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)

 

可以單獨訂購RF連接線作為備用(圖二)

 

設(shè)備包含一臺水冷機,用于靶頭冷卻(圖三 )

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    圖一

      圖二

        圖三



載樣臺

載樣臺尺寸:φ140mm(最大可放 置4"的基底)

 

載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào))

 

載樣臺最高可加熱溫度為500℃


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RF/DC電源

l此設(shè)備安裝有三個濺射電源,根據(jù)客戶需求可選(以下兩款射頻電源可任意組合使用)

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真空腔體

真空腔體:φ300 mm×300 mm H,采用不銹鋼制作

 

觀察窗口:Φ100 mm

 

腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

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氣體流量控制器

儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計,量程為:0-100sccm

 

氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作

 

此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含)

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真空系統(tǒng)

配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)(德國制作)

 

標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar(僅供參考,詳情請點擊 )

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薄膜測厚

一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝 在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  

 

LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

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產(chǎn)品外型尺寸 ?

L1300mm× W 660mm× H 1200mm

 

凈重 :160 kg

質(zhì)保

一年保修,終身技術(shù)支持。


特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

 

點擊查看售后服務(wù)承諾書。

使用提示

此設(shè)備為DIY設(shè)備,參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細溝通

 

為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N)

 

在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈

 

要達到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面

 

超聲波清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥 (4)真空烘箱除去水分。

 

等離子清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。

 

制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

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   超聲波清洗機

   等離子清洗機

    蒸鍍儀

    手套箱


警示

注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體

 

氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用

 

濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

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