| 腔體 | ·304不銹鋼制造，并配備有加強(qiáng)筋 ·內(nèi)部尺寸：470mm L×445mm D×522mm H ·配備φ380 mm 密封門(mén)，配備150 mm玻璃觀(guān)察窗 ·采用硅膠O型密封圈 ·工作溫度范圍： -15 to 150°C |
| 真空/壓力 | ·E-3 torr 使用機(jī)械泵，具體型號(hào)請(qǐng)點(diǎn)擊 ·4E-5使用分子泵，具體型號(hào)請(qǐng)點(diǎn)擊 |
| 接口/配套裝置 | ·在腔體的右側(cè)安裝有一個(gè)KF40接口，用于連接真空泵 ·共計(jì)4個(gè)KF25接口，三個(gè)在腔體右側(cè)一個(gè)在左側(cè) ·共計(jì)三個(gè)用于充放氣的真閥，兩個(gè)在在腔體后面，一個(gè)在左側(cè) ·頂部蓋板可以開(kāi)啟，用于連接客戶(hù)定制的設(shè)備 ·接口與閥門(mén)可以按照客戶(hù)的要求進(jìn)行定制
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| 應(yīng)用 | ·磁控濺射腔體： 一個(gè)完整的磁控濺射系統(tǒng)包含：1個(gè)真空腔體，磁控濺射靶頭，濺射電源（DC or RF）,真空泵系統(tǒng)（機(jī)械泵或者分子泵），水冷系統(tǒng)。 圖示為一個(gè)使用真空腔體搭建的完成磁控濺射系統(tǒng)（DC/RF可切換） 此真空腔體可以安裝單個(gè)或者多個(gè)濺射靶頭。最多安裝3個(gè)2"靶頭或5個(gè)1"靶頭。 如果您有定制需求，請(qǐng)聯(lián)系我們對(duì)靶頭匹配等事宜進(jìn)行討論，我們可以在真空腔體上根據(jù)您的需求安裝好靶頭。
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| 應(yīng)用案例 | ·可安裝3個(gè)2"靶頭或5個(gè)1"靶頭
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| 可選 | ·請(qǐng)點(diǎn)擊圖1選擇通用的真空配件，點(diǎn)擊圖2選擇可以擺放此腔體的真空泵系統(tǒng)點(diǎn)擊 圖3選擇相關(guān)磁控濺射配件
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| 尺寸 |
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| 質(zhì)保 | ·質(zhì)保一年 |
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