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如何選擇管式爐

1、根據(jù)實驗所需的最高溫度選擇合適溫度區(qū)間的加熱爐。

A.選擇工作溫度時請注意儀器所能保持的最高溫度(< 1 小時)和儀器能連續(xù)工作的溫度(安全、連續(xù)使用的溫度)。如：

    科晶GSL-1700X                                      

    最高加熱溫度是 1700°C

 連續(xù)工作溫度是 1600°C

如有不清楚的地方，請聯(lián)系科晶銷售

http://www.kjmti.com/contact/columnsId=9 0&&i=26&comContentId=26.html

圖片2.png

B、儀器使用的加熱元件限制了加熱爐的最大工作溫度,目前我公司加熱元件可分為四類:

  a.   250 ~ 1250°C   Fe-Cr-Al 或 Ni-Cr-Al 合金加熱元件 或 紅外燈管加熱元件；

   采用 K 型熱電偶。

例如： 科晶 KSL-1200X-S

采用電阻絲加熱，K 型熱電偶測溫，最高加熱溫度 1200°C，長時間使用 1100°C。

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  b.1300 ~ 1600°C 碳化硅加熱元件http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=384.html 采用 S 型熱電偶

 c.1600 ~ 1800°C MoSi2 加熱元件（禁止長時間在 800°C 以下加熱）

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=385.html

   采用 B 型熱電偶

2、根據(jù)樣品大小選擇合適的坩堝及再爐管管徑，選擇容積合適的加熱爐。(不建議不用坩堝載料直接將樣品放入爐管）

A.坩堝選擇:

 石英坩堝:≤1200°C 使用石英管，熱處理溫度超過 600°C 時，請不要用氧化鋁坩堝

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=376.html

    氧化鋁≤1800°C 使用剛玉管，熱處理溫度超過 900°C 時，請不要用莫來石坩堝

http://www.kjmti.com/products_listA1_1/pmcId=1159.html

 石 墨 坩 堝 ≤ 2300 °C

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=1330.html

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例如：1、需要對粉末進行 900°C 熱處理，選擇石英坩堝裝載樣品。

        2、需要將合金在 1600°C 融化，選擇氧化鋁坩堝。

B.管徑的選擇:

選擇好坩堝后，根據(jù)坩堝裝載樣品后的體積選擇合適的爐管管徑（一般買爐子會標配有加熱爐管）

a.石英管 ≤1200°C （真空環(huán)境下最高 1000 度）

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=364.html


型號

管徑

科晶 OTF 系列

OTF-1200X-S

Φ25、Φ50


OTF-1200X

Φ50、Φ60、Φ70、Φ80、Φ100、Φ130

科晶 GSL 系列

GSL-1100X-S

Φ20、Φ50


GSL-1100X-6-S

Φ152


GSL-1100X-8.5-S

Φ216

b.剛玉管 ≤1800°C （剛玉管不建議真空環(huán)境下使用）

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=374.html


型號

管徑

科晶 GSL 系列

GSL-1400X

Φ60、Φ80


GSL-1500X

Φ80


GSL-1600X

Φ60、Φ80


GSL-1700X

Φ60


GSL-1750X

Φ60


GSL-1800X

Φ60

例如：

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d.800°C≤SS310 管:≤1000°C(高壓力/真空爐)

e.900°C≤超耐熱不銹鋼管:≤1000°C(高壓力/真空爐)

?。。。《啻蟮臓t管放多大的坩堝及樣品

3、根據(jù)實驗要求選擇單溫區(qū)管式加熱爐和多溫區(qū)管式加熱爐，多溫區(qū)較單 溫區(qū)會設有多個熱電偶，n 溫區(qū)加熱爐的恒溫區(qū)比(n-1)溫區(qū)的加熱爐恒溫區(qū)要長，部分儀器尺寸變大。

管式爐的溫區(qū)作用及如何選擇？

 （1）恒溫區(qū)的作用：

恒溫區(qū)一般指加熱爐內(nèi)的某一段區(qū)間內(nèi)各點溫度基本一致，樣品放置在這一區(qū)間內(nèi)，樣品各處受到的溫度會基本一致。（中心區(qū)域溫差小于+ / - 1°C）

 （2）恒溫區(qū)不同帶來的變化：

恒溫區(qū)的增加或減少可能會改變儀器的尺寸，儀器整體會變長變大。

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（3）恒溫區(qū)選擇舉例

選擇合適的恒溫區(qū)，一定要先根據(jù)實驗樣品的尺寸或?qū)嶒炓蟮氖軣狍w積來選擇

A、實驗樣品尺寸大于儀器恒溫區(qū)，需要選擇多溫區(qū)來增加恒溫區(qū)的長度，

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B、根據(jù)實驗要求需要多個溫度梯度時，這就需要多溫區(qū)來實現(xiàn)

例如：通過物理沉積方式在基片上生長二維材料，原料高溫揮發(fā)后，利用載氣向低溫端移動，一定溫度下在基片上生長。（相鄰兩個溫區(qū)最大溫差 300°C）

請注意加熱爐加熱區(qū)分為總加熱區(qū)長度（加熱源能覆蓋的區(qū)域）和恒溫區(qū)長度。恒溫區(qū)總是小于總加熱區(qū)。請選擇一個恒溫爐區(qū)尺寸超過您樣品的加熱爐。

4、根據(jù)功能選擇加熱爐:

①管式爐為基礎加熱系統(tǒng)，您可以根據(jù)不同的需求選擇成套系統(tǒng)

如 CVD、PECVD、HPCVD、ALD、石墨烯和 2 維材料生長系統(tǒng)等。例如：生長石墨烯，所需要的 PECVD 系統(tǒng)

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整個系統(tǒng)包括加熱爐系統(tǒng)、射頻電源、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、通風系統(tǒng)、氫氣報警系統(tǒng)

低真空 CVD 系統(tǒng)

http://www.kjmti.com/products_listA1_1/pmcId=1062.html

低真空 CVD 系統(tǒng)

http://www.kjmti.com/products_listA1_1/pmcId=1063.html

PECVD

http://www.kjmti.com/product/14835/type.html

HPCVD

http://www.kjmti.com/product/14835/type.html

ALD

http://www.kjmti.com/product/14835/type.html

②立式管式爐：加熱管垂直放置，以懸吊樣品的方式，為樣品提供淬火。

http://www.kjmti.com/products_listA1/pmcId=1073.html

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③RTP(快速熱處理加熱爐):可以對樣品進行快速加熱和快速冷卻

科晶 OTF-1200X-4-RTP

 最快 50°C/s 升溫速度，紅外燈管加熱

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=1115.html

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科晶 OTF-1200X-50-S

加熱爐加熱到某一溫度后，滑至樣品所在區(qū)域， 可以提高升溫速度，熱處理結束，將爐體移開， 使樣品所在區(qū)域暴露在空氣中，快速冷卻。

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=1121.html

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④高壓力/真空爐:特殊設計的鎳鉻合金和不銹鋼爐管，對樣品進行高溫高壓和真空處處理。http://www.kjmti.com/products_listA1_1/pmcId=628.html

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⑤旋轉(zhuǎn)管式爐:爐管旋轉(zhuǎn)式結構可以更均勻的熱處理粉末，同時也可以達到粉末包覆的效果。http://www.kjmti.com/products_listA1_1/pmcId=1072.html

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⑥特殊氣體處理能力:氫氣處理和高溫腐蝕研究特殊模型是可用的


5、選擇有相關認證的管式爐：

 合肥科晶所有爐子的電子元器件均采用 UL 認證器件。

合肥科晶保證加熱爐可單臺可通過認證（可能會產(chǎn)生部分認證費用，具體請咨詢銷售）

http://www.kjmti.com/wy4_detail/newsId=483.html

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6、選擇合適的真空泵低真空系統(tǒng)

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=430.html

  國產(chǎn)高真空系統(tǒng)（分子泵）

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=1658.html

進口高真空系統(tǒng)（分子泵）

http://www.kjmti.com/productsA_detail/productId=429.html


7、定制爐

后期補充。。。


8、如果您還有不明白的地方，請您聯(lián)系我們

http://www.kjmti.com/contactus.html













































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